淨化型勻膠機CKF-411

淨化型勻膠機 型號CKF-411
是適合半導體(ti) 矽片的勻膠鍍膜等其用途廣泛包括適合半導體(ti) 大型晶圓矽片,芯片,晶片,等各種膠體(ti) 的工藝製版表麵塗覆或光刻工藝勻膠。是集成電路及半導體(ti) 件生產(chan) 過程中塗複光致抗腐蝕劑的專(zhuan) 用設備
設備中塗膠部分四個(ge) 工位單片微型機控製四個(ge) 工位同時工作或分別工作，即各工位的運轉單獨傳(chuan) 動，轉數單獨調節及單獨顯示。
為(wei) 保證在塗膠工藝中不飛片，設備中吸頭和氣泵中間有四個(ge) 電磁閥，同時增加一個(ge) 負壓儲(chu) 氣罐，保證了吸片牢固和可靠性。
設備中配有專(zhuan) 用的空氣淨化裝置。
主要技術指標：
勻膠工位：1個(ge) 工位 或者 4個(ge) 工位
勻膠時間：1-99秒
勻膠轉數：500-8000轉/分
淨化效果：100級（美國聯邦標準）
操作區風速：0.3-0.5米/秒(有效操作區氣流狀態：垂直層流()
於(yu) φ8mm-φ100mm晶體(ti) 矽片及其它材料等勻膠
外形尺寸：650x750x1620mm
外體(ti) 顏色：瓷白色
1．控製範圍和精度：轉速控製範圍為(wei) ：500-8000轉，精度為(wei) ±3%


2.時間控製範圍為(wei) ：1-99秒，精度為(wei) ±5%
3．轉速調整采用高精度D/A轉換，具有128級的精度調諧。
4．轉速查看智能化。（自動識別哪個(ge) 電機開或關(guan) ）自動轉換到開啟的電機上。可予先選定，也可在運行中隨時查看任一電機的轉速。
5．采用先進的I2C總線技術和E2PRAM數字存儲(chu) 器，可預存10組工藝參數（勻膠機A型機可予存10個(ge) 延時時間，40個(ge) 電機轉速參數。B型機可予存20個(ge) 時間參數，80個(ge) 轉速參數；顯影機可保存9個(ge) 慢啟動參數，30個(ge) 時間，30個(ge) 轉速參數）。保存的參數掉電10年不丟(diu) 失。調整後的參數自動保存，簡化了操作。
6．具有全自動智能控製功能，當使用全自動方式時隻需放好工件，然後按一下ATART（開始）鍵，吸盤自動打開，定時工作完成後延時6秒電機停穩後自動關(guan) 閉吸盤，喇叭鳴三聲，提示完成工作。7．定時的時間和轉速的測量全部由軟件控製，定時部分采用倒計時的方式顯示，轉速測量部分直接顯示被測電機的每分鍾轉數。調整部分由軟件和D/A轉換器控製，去掉了原使用CMOS電路采用的撥盤開關(guan) 和機械電位器的機械觸點。在原基礎上增加了全自動功能，減少了操作程序，避免了頻繁的開關(guan) 麵板上的按鍵開關(guan) ，大大的降低了按鍵開關(guan) 因頻繁使用而損壞。提了整機的可靠性和使用壽命。調整，啟動，切換，停止，並有提示音。