離子去膠機

離子去膠機 型號：PR-3

通過等離子體(ti) 方法，對陶瓷片、矽片等襯底材料圖形上的光刻膠進行幹法去除。設備為(wei) 單室真空係統，主要由真空係統、氣路係統、電氣係統、射頻電源係統、控製係統、冷卻係統、報警係統等部分組成。  
射頻電源采用RF500W電源控製。  
氣路係統采用兩(liang) 台浮子流量計控製氣體(ti) 進氣。 
  腔室結構：臥式、純石英 
  真空室規格：F210´300mm 
  限真空：1Pa（環境濕度≤55%） 
  真空係統:機械泵 
  大裝片直徑: F4英寸 
   大裝片容量：4英寸 25片/爐 
  去膠速率: ～500A/min 
  去膠不均勻性：≤±5％ (φ4吋範圍內(nei) ) 
  操作方式:手動方式 
用戶可選配全自動控製方式