勻膠顯影機

勻膠顯影機 型號：SC100-DE
　　SC100-DE勻膠顯影機是一種既可用於(yu) 精密勻膠操作，又可用於(yu) 半導體(ti) 顯影和清洗的台麵式設備，它可以實現價(jia) 值百萬(wan) 美元設備（track）的上才可能達到穩定性和均勻性。 

　　不鏽鋼外殼比塑料或者烤漆金屬更耐久和美觀；工業(ye) 級別200瓦伺服電機係統，采用與(yu) track設備相同設計和程序，使您的工藝更具有實際應用意義(yi) ；同類產(chan) 品中的大達到50000RPM/S的旋轉加速度，確保勻膠和顯影的穩定性和高的可重複性。 
主要性能指標： 
主機機箱采用不鏽鋼材料（抗化學腐蝕易清潔）  
旋塗程序：多可存100組程序，每組100步，每個(ge) 步驟可到0.1秒  
轉動速度：0-10,000rpm（更高速可選）  
旋塗加速度：0-50,000rpm/sec（空載）  
馬達旋塗轉速穩定性能誤差 < ±1rpm  
轉速調節精度<1rpm，重複性< 1rpm  
工藝時間設定： 0-3,000 sec/step，時間設置精度：0.1sec  
支持wafer尺寸1cm-200mm（8“圓晶）  
標準配置兩(liang) 路噴液係統（顯影液和去離子水） 



產(chan) 品特性優(you) 點： 
主機在SC100-SE勻膠機上升級，增加耐腐蝕高分子材料防濺式罩蓋 

全程序編輯功能，更方便的智能化操作，更好的顯影/清洗效果  
可實現多獨立四路噴液用於(yu) 顯影/清洗工作，或進行氮氣吹幹  
控製器可實現程序自動控製噴液或進行手動操作，使用更加方便 

顯影係統可進行噴霧式、柱流式多種選擇，視要求進行配置  
提供客戶定製化的顯影係統配置和工裝設計  
高可靠性和重複性，高轉速精度和更高轉速可選  
可添加去邊膠和背膠清洗功能